9 godzin temu
Chiński SMIC znacząco poprawił wydajność produkcji 5-nanometrowych chipów – uzysk sięga już 70%, co zbliża firmę do światowej czołówki mimo braku dostępu do zaawansowanego sprzętu EUV.
Chiński producent półprzewodników SMIC osiągnął przełom w produkcji 5-nanometrowych układów scalonych. Jak podają źródła branżowe, uzysk z produkcji – czyli odsetek w pełni działających chipów – przekroczył już 60%, a w niektórych przypadkach sięga choćby 70%. To wyraźny skok w porównaniu z wcześniejszymi szacunkami, które wskazywały zaledwie 30–40% skuteczności.
Dotychczas największym ograniczeniem SMIC był brak dostępu do litografii EUV, która jest kluczowa przy produkcji najnowocześniejszych układów. Firma musiała więc polegać na starszej technologii DUV, uzupełnionej skomplikowanymi sekwencjami wielokrotnego patternowania. Taka metoda zwiększała złożoność całego procesu, obniżała jego powtarzalność i podnosiła koszty, co przekładało się na gorszą opłacalność produkcji.
Od początku 2025 roku widać jednak wyraźną poprawę, zwłaszcza w kontekście produkcji układów dla Huawei oraz chipów do zastosowań AI. Chińskie media podkreślają, iż rosnący uzysk w technologii 5 nm może otworzyć drogę do większej skali komercyjnych wdrożeń i poważniejszej rywalizacji z zachodnimi producentami.
Wciąż jednak SMIC ma przed sobą kilka istotnych barier. Koszt wytworzenia 5-nanometrowych chipów jest choćby o 40–50% wyższy niż w przypadku TSMC. Firma musi także zapewnić ciągłość dostaw maszyn litograficznych DUV, które są podstawą obecnych możliwości. Jednocześnie rozwijane są jednak lokalne alternatywy dla zachodnich technologii, co w dłuższej perspektywie może wzmocnić pozycję Chin na globalnym rynku zaawansowanych półprzewodników.
