Jensen Huang: Chiny będą mieć zaawansowaną litografię do 2030 roku. Dziś wciąż dzieli je od ASML ogromny dystans

Jensen Huang mówi, iż Chiny potrzebują tylko kilku lat, aby zbudować własne zaawansowane maszyny litograficzne. W podcaście All-In wskazał 2030 rok i stwierdził, iż dla chińskiego przemysłu taki termin nie jest szczególnie odległy. Problem w tym, iż między deklaracją a działającą maszyną klasy ASML znajduje się ogromny łańcuch technologii. Chiny mają już własne skanery DUV, ale ich produkcja dopiero się rozpędza, a projekt EUV wciąż pozostaje prototypem.